隨著全球LED市場需求的進一步加大，未來我國LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展面臨巨大機遇，但同時也存在著前所未有的挑戰(zhàn)。目前，LED核心技術(shù)和專利基本被國外壟斷?？梢哉f，我國的LED產(chǎn)業(yè)是在“快樂”中“痛苦”地前行。
國際視野下的LED產(chǎn)業(yè)
當前，全球已初步形成以亞洲、北美、歐洲三大區(qū)域為中心的產(chǎn)業(yè)格局，以日本的日亞化工、豐田合成，美國的科瑞、普瑞和德國的歐司朗為專利核心的技術(shù)競爭格局，來自日、美、歐的幾大國際廠商代表了當今LED的上游水平，對產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重大影響。這種影響不僅體現(xiàn)在產(chǎn)品和收入上，更重要的是對技術(shù)的壟斷，50%以上的核心專利都掌握在這幾大廠商手中。而我國的LED還處于較低端的水平，80%左右的產(chǎn)品集中在景觀照明、交通信號燈等應(yīng)用市場，通用照明市場還在推廣之中。
隨著國內(nèi)LED市場的蓬勃發(fā)展，越來越多的國外企業(yè)把目光轉(zhuǎn)向中國。近幾年，我國受理LED領(lǐng)域的專利申請數(shù)量逐年顯著增加。據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局發(fā)展研究中心在《半導體照明專利風險分析研究報告》中稱，全球已有22個國家和地區(qū)在我國申請了專利，排名前五位的國家分別是日本、韓國、美國、德國和荷蘭。其中，日本以1306件專利申請的數(shù)量遙遙領(lǐng)先，占申請總量的24%。在有效專利方面，國內(nèi)專利申請與國外來華專利申請的比例約為4：5。但在這些國內(nèi)專利申請中，臺灣地區(qū)占據(jù)了大量的份額，其有效發(fā)明專利占到了53%。從產(chǎn)業(yè)鏈的分布來看，國外公司主要在芯片、封裝領(lǐng)域的專利較多，有一半的LED核心發(fā)明在我國提出了專利申請，國外LED企業(yè)掌握了絕大多數(shù)的核心專利技術(shù)。
曲折中前行的國內(nèi)LED產(chǎn)業(yè)
國內(nèi)的LED產(chǎn)業(yè)起步于20世紀70年代。經(jīng)過近40年的發(fā)展，現(xiàn)已形成上海、大連、南昌、廈門、深圳、揚州和石家莊等7個國家半導體照明工程產(chǎn)業(yè)化基地，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于景觀照明和普通照明領(lǐng)域。目前，我國已成為世界第一大照明電器生產(chǎn)國和第二大照明電器出口國。截至2011年底，我國共有LED企業(yè)3000余家，其中年產(chǎn)值上億元的只有140家。然而，在這140家企業(yè)中，沒有一家企業(yè)的產(chǎn)品年銷售額超過10億元，超過5億元的也只有少數(shù)幾家。
是什么原因使得中國LED產(chǎn)業(yè)在艱難中前行呢?究其原因，一是行業(yè)缺乏權(quán)威的行業(yè)技術(shù)標準;二是企業(yè)的研發(fā)主要集中在下游的應(yīng)用領(lǐng)域，在上、中游的研發(fā)投入相對較少。而國外大公司和我國臺灣地區(qū)的一些企業(yè)已經(jīng)壟斷了大部分LED核心技術(shù)，大陸企業(yè)只能把目光轉(zhuǎn)向技術(shù)含量較低的下游應(yīng)用市場。
我國LED行業(yè)除了核心技術(shù)競爭力不強之外，產(chǎn)學研結(jié)合比較松散也是制約其發(fā)展的一個主要因素。LED專利有很大一部分集中在科研院所，在外延領(lǐng)域，專利擁有量排前三名的分別是中科院半導體所、中科院物理所和北京工業(yè)大學;在芯片領(lǐng)域，排前三位的分別是中科院半導體所、北京工業(yè)大學和北京大學。與科研院校相比，國內(nèi)企業(yè)申請的實用新型專利較多。
與外國公司相比，我國LED專利申請明顯處于劣勢。據(jù)高工LED產(chǎn)業(yè)研究所調(diào)查，中國的LED相關(guān)專利申請共2.6071萬件，其中處于產(chǎn)業(yè)中游和下游的封裝與應(yīng)用方面的專利接近50%。盡管我國在電極、微結(jié)構(gòu)、反射層、襯底剝離、健合等方面具有一定優(yōu)勢，但大多屬于外圍專利，發(fā)明專利只占60%，且通過《專利合作條約》(PCT)途徑提交的國際專利申請和向國外申請的專利不多。
面對國際競爭對手的“虎視眈眈”，國內(nèi)企業(yè)更應(yīng)苦練“內(nèi)功”。首要的是加大自主創(chuàng)新力度，重點研發(fā)能夠被市場廣泛接受和認可的新技術(shù);其次是與國外公司展開合作。應(yīng)該在消化、吸收國外先進技術(shù)的基礎(chǔ)上，加強模仿創(chuàng)新，通過對競爭對手的核心專利進行改進，提高其技術(shù)效果;再次是申請改進型專利，這是規(guī)避專利侵權(quán)風險的一條有效途徑。